在業內，比Intel、臺積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心（IMEC），雖然名氣不大，但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近，ASML的原型試做機，往往在完工後就第一時間送交IMEC評估嘗鮮。
日前，IMEC首席執行官Luc Van den hove在公開路線圖時表示，當前的EUV光刻設備其實可以響應到2nm的微縮水平，不過，想要超越，必須要靠下一代高NA EUV光刻機。
他督促ASML在未來3年內，全力投產高NA光刻機。
所謂高NA也就是光刻機的透鏡和反射鏡數值孔徑達到0.55，進而增加光刻分辨率，以便制備更精密的為電路圖像。當前的EUV光刻機均停留在0.33的水平。
一切順利的話，ASML會在明年推出其首款高NA EUV光刻機，Intel、三星和臺積電都爭相第一時間部署進廠，其中Intel下手最快。
這款光刻機價值高達4億美元（約合26億元人民幣），組裝好的體積有雙層巴士大、重超200噸。
時此刻，臺積電、三星電子兩傢芯片大廠不約而同的尋求下一代EUV光刻機，意味著現在“2nm技術戰”已經打響。“到瞭未來的技術節點，間距微縮將減緩，矽晶體管似乎隻能安全地微縮至2nm，而在那之後，我們可能就會開始使用
可直達1nm工藝左右。那麼之後呢？消息稱，ASML正在研究下一代HyperNA(超級NA)光刻機，繼續延續摩爾定律。ASML第一代Low NA EUV光刻機隻有0.33 NA(孔徑數值)，臨界尺寸(CD)為13.5nm，最小金屬間距為26nm，單次曝光下的內連接間距約為25-30
NXE:3600D，性能有進一步的提高，可以支持未來幾年3nm及2nm芯片的制造。在ASML看來，Twinscan NXE:3800E代表Low-NA EUV光刻技術在性能（每小時處理的晶圓數量）和精度方面的又一次飛躍。新的光刻設備可實現每小時處理195片晶圓的處理
對於芯片廠商而言，光刻機顯得至關重要，而ASML也在積極佈局新的技術。據外媒報道稱，截至2022年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統，約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法，新型號的EUV光刻機系統NXE:3600D將能達到93%的可
3孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元，約合10億一臺，不過下一代會更貴。光刻機制造芯片的關鍵指標就是光刻分辨率，其中鏡頭的NA數值孔徑越大越好，現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機能夠量產3nm、2nm工藝，再往後就需要NA 0.55孔徑的
析師認為，至少對於一些芯片制造商來說，使用該公司的下一代High-NA（高數值孔徑）光刻設備在財務上意義不大。在最近接受BitsandChips采訪時，ASML首席財務官表示，High-NA正在走上正軌且健康，該分析公司低估它的好處。在該公
ASML（荷蘭阿斯麥）正抓緊研制其下一代高NA（0.55數值孔徑）的EUV極紫外光刻機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購新一代設備。具體來說，在Intel和臺積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高NAEUV光刻機。
刻機屆時效率也不高，ASML預計會在2026年推出High NA技術的下一代EUV光刻機EXE:5000系列，將NA指標從當前的0.33提升到0.55，進一步提升光刻分辨率。不過下代EUV光刻機的成本也會大漲，當前售價在1.5億美元左右，下代價格輕松超過4
種原因限制出貨。值得一提的是，在本季度中，ASML公司下一代的高NA孔徑EUV光刻機獲得重大突破，已經收到來自供應商的物鏡、光源及工作臺，這也是光刻機的三大核心部件，關系著光刻機的正常運行。根據ASML的消息，相比目
相比，該系統顯著提高性能。它專為制造采用前沿技術的芯片而設計，包括未來幾年的3nm、2nm和小節點。ASML Twinscan NXE:3800E代表低數值孔徑 EUV光刻技術在性能（每小時處理的晶圓數量）和匹配的加工覆蓋方面的飛躍。新系統每小
在為什麼備受關註呢？因為這關乎摩爾定律的繼續演進，芯片的繼續微縮。什麼是計算光刻？在講計算光刻之前，讓我們先從一個簡單的相機開始談起。數碼相機我們都不陌生，一般而言，相機的光圈越大越好。那麼如何分辨光
過去兩年，伴隨芯片的短缺、對華禁令等一系列重大事件，光刻機從一種不為人知的先進制造設備，一躍成為大眾的新聞熱點。在這當中，荷蘭光刻機廠商ASML幾乎是繞不開的存在。原因並不復雜，因為 ASML 是全球唯一一傢有能
前隻有ASML能制造，單臺售價10億人民幣，今年底還會迎來下一代EUV光刻機，價格也會大漲。光刻機的分辨率越高，越有利於制造更小的晶體管，而分辨率也跟光刻機物鏡的NA數值孔徑有直接關系，目前的EUV光刻機是NA=0.33技術的，
套高數值孔徑EUV光刻系統。該公告凸顯領先芯片制造商對下一代極紫外（EUV）光刻技術的濃厚興趣。與此同時，尚不清楚ASML的哪傢客戶是第二傢獲得具有0.55數值孔徑投影光學器件的EUV工具的公司。ASML 首席商務官 Christophe Fouquet