售價25億的“電老虎” 下代EUV光刻機功耗飆到200萬瓦

EUV光刻機是少不的關鍵設備，目前隻有ASML能制造，單臺售價10億人民幣，今年底還會迎來下一代EUV光刻機，價格也會大漲。光刻機的分辨率越高，越有利於制造更小的晶體管，而分辨率也跟光刻機物鏡的NA數值孔徑有直接關系，

灣省的12.5%。世界僅此一傢的EUV公司ASML，旗下新一代的EUV光刻機耗資高達1.5億美元，包含10萬個部件和長達2公裡的佈線。EUV光刻機體現著更先進芯片的制造過程正變得復雜和能源密集。ASML當前每臺EUV的額定耗電量約為1百萬瓦，

灣省的12.5%。世界僅此一傢的EUV公司ASML，旗下新一代的EUV光刻機耗資高達1.5億美元，包含10萬個部件和長達2公裡的佈線。EUV光刻機體現著更先進芯片的制造過程正變得復雜和能源密集。ASML當前每臺EUV的額定耗電量約為1百萬瓦，

升光刻分辨率。不過下代EUV光刻機的成本也會大漲，當前售價在1.5億美元左右，下代價格輕松超過4億美元。

半導體制造中的核心設備，隻有ASML公司才能生產，單臺售價約10億人民幣，之前三星、臺積電等公司還要搶著買，然而今年半導體形勢已經變，EUV光刻機反而因為耗電太多，臺積電計劃關閉省電。來自產業鏈的消息人士手機晶片

天需要3萬度電左右，一年耗電大約1000萬度，是十足的電老虎。

造行業是一個高耗電及高耗水的產業，一個重要原因就是光刻機，新一代的EUV光刻機更是誇張，功率達到100萬瓦，是上一代的10倍左右，每天耗電3萬度，而臺積電去年就差不多80臺EUV光刻機，耗電量可想而知。據統計，臺積電2021

ASML最先進EUV光刻機今年訂單已經被Intel包攬，其單臺售價超過25億元。據悉，ASML截至明年上半年最先進EUV設備的訂單已經由英特爾承包，而今年計劃生產的五套設備也將全部運給這傢美國芯片制造商。按照消息人士的說法，由於

有阿斯麥（ASML）最先進的高數值孔徑極紫外（high-NAEUV）光刻機，用於生產納米片晶體管（GAAFET）架構的2nm（N2）芯片，預計在2025年量產。與此同時，6月初被美國總統拜登亞洲行接見後，緊接著，韓國三星電子副會長李在鎔又馬

在業內，比Intel、臺積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心（IMEC），雖然名氣不大，但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近，ASML的原型試做機，往往在完工後就第一時間送交I

投入需要每年10億歐元。2015年，可量產的樣機發佈。雖然售價高達1.2億美元一臺，但還是收到雪片一樣的訂單。排隊等交貨，都要等好幾年。一臺EUV光刻機重達180噸，超過10萬個零件，需要40個集裝箱運輸，安裝調試都要超過一

表生產成本將大幅增加，由於明年即將量產的2納米晶圓售價仍未大幅增加，成為臺積電、三星不急於導入High NA EUV光刻機臺的關鍵。業界人士推測，臺積電預計最快在1.4納米（A14）才導入High NA EUV光刻機臺，代表2025年才可望有采

臺積電在早前的技術大會上則表示，在全球已經安裝的EUV光刻機系統中，臺積電擁有瞭其中的55%。三星的實際控制人李在鎔日前則拜訪瞭荷蘭總統，以尋找更多的EUV供應。這再次說明，生產先進芯片必不可少的EUV成為瞭全球關註

對於芯片廠商而言，光刻機顯得至關重要，而ASML也在積極佈局新的技術。據外媒報道稱，截至2022年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統，約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法，新型號的EUV光刻機系統NXE:3600D將能達到93%的可