ASML（荷蘭阿斯麥）正抓緊研制其下一代高NA（0.55數值孔徑）的EUV極紫外光刻機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購新一代設備。具體來說，在Intel和臺積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高NAEUV光刻機。
高NA EUV光刻機允許加工更精密的半導體芯片，生產效率也更高，它也是2nm及更先進工藝的必要條件。
韓國設備商透露，現款EUV光刻機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機的報價翻番到5000億韓元（約合26億元）。
據解，在三季度財報中，ASML完成58億歐元的凈銷售額，毛利率51.8%、凈利潤17億歐元，公司預計四季度凈銷售額在61~66億歐元之間。
CEO Peter Wennink，其三季度預訂產品的銷售額達到創紀錄的89億歐元，其中EUV設備就有38億歐元。
套高數值孔徑EUV光刻系統。該公告凸顯領先芯片制造商對下一代極紫外（EUV）光刻技術的濃厚興趣。與此同時，尚不清楚ASML的哪傢客戶是第二傢獲得具有0.55數值孔徑投影光學器件的EUV工具的公司。ASML 首席商務官 Christophe Fouquet
種原因限制出貨。值得一提的是，在本季度中，ASML公司下一代的高NA孔徑EUV光刻機獲得重大突破，已經收到來自供應商的物鏡、光源及工作臺，這也是光刻機的三大核心部件，關系著光刻機的正常運行。根據ASML的消息，相比目
可直達1nm工藝左右。那麼之後呢？消息稱，ASML正在研究下一代HyperNA(超級NA)光刻機，繼續延續摩爾定律。ASML第一代Low NA EUV光刻機隻有0.33 NA(孔徑數值)，臨界尺寸(CD)為13.5nm，最小金屬間距為26nm，單次曝光下的內連接間距約為25-30
產。阿斯麥在本周公佈的最新財報中表示，已開始向一位客戶發運第二套高數值孔徑極紫外光刻機。這位客戶可能是臺積電或三星。由於這些大型設備的運輸和安裝可能需要長達六個月的時間，因此英特爾此舉已經占據先機。（
析師認為，至少對於一些芯片制造商來說，使用該公司的下一代High-NA（高數值孔徑）光刻設備在財務上意義不大。在最近接受BitsandChips采訪時，ASML首席財務官表示，High-NA正在走上正軌且健康，該分析公司低估它的好處。在該公
1.83 億美元。另一臺低噪點EUV設備將於2026年發佈--ASML的下一代Twinscan NXE:4000F型號將與新興的（更昂貴的）高噪點解決方案並存。
線圖，且進展順利，在EUV之後是High-NA EUV技術，ASML正在為客戶交付首臺High-NA EUV光刻機做準備，大概會在明年某個時間點完成。雖然供應鏈問題仍可能打亂ASML的時間表，不過應該問題不大。High-NA EUV光刻機會比現有的EUV光刻機更
3孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元，約合10億一臺，不過下一代會更貴。光刻機制造芯片的關鍵指標就是光刻分辨率，其中鏡頭的NA數值孔徑越大越好，現在NA 0.33孔徑的EUV光刻機能夠量產3nm、2nm工藝，再往後就需要NA 0.55孔徑的
光刻機設備，除英特爾率先取得設備之外，臺積電及三星訂購的新機器預計最快2026年陸續到位，屆時HighNAEUV機器可望成為全球三大晶圓制造廠搶進2納米以下先進制程的必備武器。媒體報道，ASML近期對外秀出High NA EUV光刻機設備
韓媒《BusinessKorea》周四(30日)報導，三星電子和ASML就引進今年生產的EUV曝光機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NAEUV曝光機達成采購協議。三星電子副董事長李在鎔本月初赴歐洲之行，他在 6 月 14 日前往 ASML 位於荷蘭 Veldhoven
時此刻，臺積電、三星電子兩傢芯片大廠不約而同的尋求下一代EUV光刻機，意味著現在“2nm技術戰”已經打響。“到瞭未來的技術節點，間距微縮將減緩，矽晶體管似乎隻能安全地微縮至2nm，而在那之後，我們可能就會開始使用
最近ASML（阿斯麥）交付第三代極紫外（EUV）光刻工具，新設備型號為TwinscanNXE:3800E，配備0.33數值孔徑透鏡。相比於之前的TwinscanNXE:3600D，性能有進一步的提高，可以支持未來幾年3nm及2nm芯片的制造。在ASML看來，Twinscan NXE:3800E代
進行研究，這些技術可供 Attolab 的合作夥伴使用。為支持下一代光刻，imec 正在探索以下技術。一方面，光掩膜的開發正在進行幾項新的發展。如為滿足降低 EUV 曝光劑量的要求，具有低 n 吸收劑的掩模正在被大量研究，因為它
片設備制造商阿斯麥（ASML）2月10日向媒體展示新一代極紫外光刻機（EUV），型號為：TWINSCANEXE:5000。這臺光刻機大小約一輛雙層巴士，重量約兩架空客A320飛機、價值高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。該設備對ASML在1250億美元