價值27億元的ASML高數值孔徑EUV光刻機組裝畫面公開

ASML周三表示，它已開始向另一傢客戶運送其第二套高數值孔徑EUV光刻系統。該公告凸顯領先芯片制造商對下一代極紫外（EUV）光刻技術的濃厚興趣。與此同時，尚不清楚ASML的哪傢客戶是第二傢獲得具有0.55數值孔徑投影光學器件

季度財報，當季實現凈銷售額52.90億歐元(約合人民幣406.5億元)，環比下滑26.9％；毛利率51.0％，環比減少0.4個百分點；凈利潤12.24億歐元(約合人民幣94.1億元)，環比下滑40.2％。凈銷售額處於預測營收區間的中間值，毛利率高於預

低估通過避免昂貴的雙重和四重曝光來降低流程復雜性的價值。他還表示，人們可以簡單地與英特爾談談雙重曝光帶來的復雜性，他指的是英特爾在10nm方面的失敗，至少部分是由於缺乏EUV技術。英特爾是當今 High-NA 的主要客戶

美國芯片巨頭英特爾宣佈，已開始組裝阿斯麥（ASML）的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機，這是其超越競爭對手的重要一步。英特爾是首傢購買阿斯麥新一代光刻機的公司，這臺機器的售價高達3.5億歐元（約合3.73億美元

英特爾已經完成第一臺高數值孔徑（HighNA）極紫外光刻掃描儀的組裝，英特爾院士MarkPhillips（馬克·菲利普斯）討論進展和前景。TwinscanEXE:5000的供應商ASMLHoldingNV（荷蘭Veldhoven）必須完成掃描儀的集成和校準，該掃描儀位於俄勒

於推進低數值孔徑的承諾-NA EUV 制造技術，盡管即將采用高數值孔徑光刻工具。

高數值孔徑EUV光刻機是全球芯片制造商都在等待的下一代尖端半導體制造設備，而這一有雙層巴士那麼大的機器終於迎來“初次曝光”。據荷蘭阿斯麥公司周三證實，新型光刻機已經首次將光線投射到晶圓之上，完成基本功能驗

照現有的路線圖，臺積電將在極紫外光刻（EUV）之後轉向高數值孔徑。該公司現正攜手Imec，準備2023年迎來其首臺研究型High-NA掃描儀。資料圖（來自：ASML）如果一切順利，ASML 有望 2024 年交付首臺研發機器，並於 2025 年的某個時

爭相第一時間部署進廠，其中Intel下手最快。這款光刻機價值高達4億美元（約合26億元人民幣），組裝好的體積有雙層巴士大、重超200噸。

次披露，到2024年，臺積電將擁有阿斯麥（ASML）最先進的高數值孔徑極紫外（high-NAEUV）光刻機，用於生產納米片晶體管（GAAFET）架構的2nm（N2）芯片，預計在2025年量產。與此同時，6月初被美國總統拜登亞洲行接見後，緊接著，

巨大努力。按照之前的說法，ASML正在研發新款光刻機，價值高達4億美元（約合26億元人民幣），雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出貨。這款機器應該指的就是High-NA EX

透露，現款EUV光刻機的訂貨價是2000~3000億韓元（約合10~16億元人民幣），而高NA EUV光刻機的報價翻番到5000億韓元（約合26億元）。據解，在三季度財報中，ASML完成58億歐元的凈銷售額，毛利率51.8%、凈利潤17億歐元，公司預計四季

，使得透鏡必須變得太大而無法補償，這種現象也會隨著數值孔徑的增加而出現。Martin van den Brink證實，ASML正在對此進行研究，不過個人而言，懷疑Hyper-NA將是最後一個NA，而且不一定能真正投入生產，這意味經過數十年的光刻

升EUV光刻機的NA，這在很多文章中也都談過。歸根到底，高數值孔徑 EUV 系統的好處可以用一個詞來概括——分辨率。因為根據瑞利公式，將孔徑從0.33增加到 0.55，可以成比例地提高可實現的臨界尺寸——從0.33 NA 系統的 13nm提升