ASML(阿斯麥)今天公佈2024年第一季度財報，當季實現凈銷售額52.90億歐元(約合人民幣406.5億元)，環比下滑26.9％；毛利率51.0％，環比減少0.4個百分點；凈利潤12.24億歐元(約合人民幣94.1億元)，環比下滑40.2％。
凈銷售額處於預測營收區間的中間值，毛利率高於預期，主要原因是浸潤式光刻機、EUV業務收入更高，
當季售出光刻機共70臺，其中全新66臺、二手4臺，同時新增訂單金額為36億歐元，其中6.56億歐元訂單來自EUV業務。
過去半年累計新增訂單金額近130億歐元。
ASML預計第二季度凈銷售額57-62億歐元，毛利率50-51％，2024年全年收入將與2023年基本持平，今年被視為調整年。
ASML預計2025年將是強勁增長的一年，凈銷售額可達300-400億歐元，大部分銷售的低數值孔徑EUV光刻機型號將是NXE:3800，高數值孔徑型號EXE:5200也會推出，從而大幅拉高平均售價和毛利率，可達54-56％。
產能方面，ASML未來將擴大到年產90臺低數值孔徑EUV、600臺DUV，中期達到年產20臺高數值孔徑EUV。
19日，光刻機巨頭公司ASML公佈2023年第一季度的財務數據。財報數據顯示，ASML第一季度凈銷售額67.5億歐元（約合人民幣505.18億元），同比增長90.9%；凈利潤19.6億歐元（約合人民幣150.8億元）同比增長181.4；毛利率50.6%。ASML總裁兼
，第三季度新增訂單金額26億歐元，其中14億歐元來自EUV光刻機。光刻機總銷量116臺，其中全新的106臺，環比增加17臺，二手的10臺，環比減少1臺。低數值孔徑（0.33）EUV光刻機方面，越來越多客戶需求轉向NXE:3800E，預計第四季度
期為40.20億歐元，同比增長35%。毛利潤為26.65億歐元，上一季度為17.31億歐元，上年同期為20.45億歐元;毛利率為49.1%，上一季度為49.0%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。Q2新增訂單金額為84.61億歐元，其中
麥）正抓緊研制其下一代高NA（0.55數值孔徑）的EUV極紫外光刻機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購新一代設備。具體來說，在Intel和臺積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高NAEUV光刻機。高NA EUV光刻機
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥全球高級副總裁、中國區總裁沈波在進博會期間接受專訪時表示，今年阿斯麥中國的業務增長很快，預期全年中國占阿斯麥全球的營收會超過20%，對明年在中國的業務也非常的樂觀。沈波表示：“我們2023
收和凈利潤均超預期。財報顯示，阿斯麥Q4凈銷售額從上一季度的66.7億歐元增至72.4億歐元，分析師預期為69億歐元;凈利潤增長9%至20億歐元，分析師預期為18.7億歐元;基本每股收益為5.21歐元，上一季度為4.81歐元。第四季度，新增
dingNV表示，由於對先進芯片制造設備的需求強勁，公司第一季度銷售可能會超過分析師的預期。ASML周三在截止12月31日的季度業績公告中表示，預計一季度銷售額為61億歐元至65億歐元（折合67億美元至71億美元）。機構調查分析
4月19日，阿斯麥（ASML.US）公佈2023年第一季度財務業績。財報顯示，阿斯麥Q1凈銷售額為67.46億歐元，同比增長91%，好於市場預期的63.1億歐元；凈利潤為19.56億歐元，上年同期為6.95億歐元，同比增長183%，好於市場預期的16.2億歐元
道，一名消息人士透露，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。目前，荷蘭政府已成立一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以探索阻止ASML離開的方法。消息
備制造商阿斯麥（ASML）2月10日向媒體展示新一代極紫外光刻機（EUV），型號為：TWINSCANEXE:5000。這臺光刻機大小約一輛雙層巴士，重量約兩架空客A320飛機、價值高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。該設備對ASML在1250億美元的EUV
今年是光刻設備領先供應商阿斯麥（ASML）第五次參加進博會，公司將以“光刻未來，攜手同行”為主題，亮相國傢會展中心技術裝備展區集成電路專區，並首次以互動視頻的形式帶領觀眾深度解ASML包括光刻機臺、計算光刻以及
乎翻倍增長到46%（銷售額約為24.42億歐元），要知道今年一季度中國大陸的銷售收入占比僅8%。這也進一步凸顯中國大陸市場對於ASML光刻系統的需求的快速增長。需要指出的是，美國在2022年10月開始對先進芯片/半導體設備對華出
乎翻倍增長到46%（銷售額約為24.42億歐元），要知道今年一季度中國大陸的銷售收入占比僅8%。這也進一步凸顯中國大陸市場對於ASML光刻系統的需求的快速增長。需要指出的是，美國在2022年10月開始對先進芯片/半導體設備對華出
備大廠ASML秀出價值高達3.5億歐元的HighNA極紫外光（EUV）光刻機設備，除英特爾率先取得設備之外，臺積電及三星訂購的新機器預計最快2026年陸續到位，屆時HighNAEUV機器可望成為全球三大晶圓制造廠搶進2納米以下先進制程的必備