ASML正研發超級NA光刻機 2036年沖擊0.2nm工藝

行業需求所做出的巨大努力。按照之前的說法，ASML正在研發新款光刻機，價值高達4億美元（約合26億元人民幣），雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出貨。這款機器應

有4年掌握5代CPU工藝之後，Intel還啟動未來兩代的CPU工藝研發，目標逼近1nm。Intel的5代CPU工藝分別是Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A及Intel 18A，其中Intel 7在2021年的12代酷睿上首發，Intel 4會在下半年的14代酷睿上首發，還會首次用上E

失誤。基辛格在接受采訪時就說過，英特爾曾是 EUV 技術研發的重要推手，包括 ASML 研發 EUV 光刻機也得到英特爾的不少幫助，但是在 10nm 節點上英特爾並沒有選擇 EUV 光刻路線，而是嘗試 SAQP 四重曝光技術生產先進工藝。之後的

快科技6月17日消息，在半導體工藝進入7nm節點之後，EUV光刻機是少不的關鍵設備，目前隻有ASML能制造，單臺售價10億人民幣，今年底還會迎來下一代EUV光刻機，價格也會大漲。光刻機的分辨率越高，越有利於制造更小的晶體管，

在業內，比Intel、臺積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心（IMEC），雖然名氣不大，但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近，ASML的原型試做機，往往在完工後就第一時間送交I

然解使用高數值孔徑EUV掃描儀的利弊，因此他們已經開始研發工作。“我們的客戶將在 2024-2025 年開始研發，並在 2025-2026 年進入大批量生產，”ASML 的一份聲明中寫道。ASML最近分享有關其新型High-NA設備的更多細節，以下是這些

，導致電流就容易“漏出”。為瞭解決該問題，科研人員研發出FinFET工藝，增加柵極的接觸面積，減少電流漏電事件，同時芯片性能也能得到提升——類似“褲腰帶”變成“帶扣皮帶”的方案。而2nm使用的新的GAAFET結構，則是將

。記得梁先生在2020年辭職信裡提到，3年多完成從28nm到7nm研發的神奇三級跳。這種跳躍並沒有設備上的不同，而是來自海峽對岸的工程師們在晶圓廠的know-how上面，做出奇跡般的傳遞。到現在，我們還沒開始討論EUV。現在大傢都

臺積電在早前的技術大會上則表示，在全球已經安裝的EUV光刻機系統中，臺積電擁有瞭其中的55%。三星的實際控制人李在鎔日前則拜訪瞭荷蘭總統，以尋找更多的EUV供應。這再次說明，生產先進芯片必不可少的EUV成為瞭全球關註

但是和大傢想象的那樣子還是不同的。飛利浦在實驗室裡研發出stepper的原型，但是不夠成熟。因為光刻市場太小，飛利浦也不能確認它是否有商業價值，去美國和P&E、GCA、Cobilt、IBM等談一圈沒人願意合作。有傢荷蘭小公司叫A

隨著半導體工藝進入7nm以內，EUV光刻機是必不可少的關鍵設備，全球隻有ASML公司能生產，現在NA0.33孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元，約合10億一臺，不過下一代會更貴。光刻機制造芯片的關鍵指標就是光刻分辨率，其中鏡頭的

力量，可見其重要性。（順便一提，ASML目前有計算光刻研發實習的職位招聘）問題來，計算光刻越來越難但是現在問題來，據NVIDIA先進技術集團副總裁Vivek K Singh的說法：“我在1993年加入光刻工作時，如果你想在晶圓上印一個十

額69.77億歐元環比增長21%。本季度中，ASML公司出貨12臺EUV光刻機，比Q1季度的3臺大幅增長，之前因為種種原因限制出貨。值得一提的是，在本季度中，ASML公司下一代的高NA孔徑EUV光刻機獲得重大突破，已經收到來自供應商的物鏡

麥）正抓緊研制其下一代高NA（0.55數值孔徑）的EUV極紫外光刻機，在發佈最新財報期間，AMSL透露，其存量EUV客戶均訂購新一代設備。具體來說，在Intel和臺積電之後，三星、SK海力士、美光等也下單高NAEUV光刻機。高NA EUV光刻機