今年3月8日，荷蘭方面，計劃對半導體技術出口實施新的管制，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。
3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。
同時公司還表示新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”
據中國經營報，荷蘭方面的動議未提及會對服務采取限制措施的表述，換言之，業內人士相信，已完成進口的DUV設備大都還處在關鍵部件的設計壽命以內，隻要正常維護保養就暫無影響。一般，DUV設備6個月進行一次維護以替換或維修老化和損耗部件。
另外，按照目前業界理解，不受出口限制的DUV將停留在對準精度2.5納米的水平。ASML已經出貨的DUV光刻機中對準精度最高的是1.5nm的NXT:2050i。
所謂對準精度”是指，光刻機在進行芯片加工時，在對準芯片和掩模圖案時能夠達到的精度。對準精度一般以納米衡量，納米數值越小，產品越先進。
至於所謂浸沒式光刻機（浸潤式光刻機），屬於193nm（光源）光刻機（分為幹式和浸沒式），可以被用於16nm至7nm先進制程芯片的制造，但是目前也有被業界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。