快科技7月1日消息，昨天有消息稱，ASML旗下所有的DUV光刻機，出口都要被經過認可才可以。
對於這樣的說法，也是引起熱議，不過ASML給出回應。
ASML表示，出口管制條例隻涉及部分最新DUV型號，包括TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。EUV光刻機在此前已經受到限制，其他系統的發運未受管控。
此外，ASML還表示，上述規定是在9月1日才生效，而他們已經提交許可申請。
所以，在上述時間之前發貨的DUV光刻機或不受影響，此前業內猜測的TWINSCAN NXT:1980Di也不受影響。
在這之前，光刻機大廠ASML高管對外表示，半導體業隻有通力合作，建立完全自主的產業鏈，即使並非不可能也會極其困難。
NSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示“新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對
別來看，光刻設備進口額暴漲近4倍。就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。從三季度中國半
別來看，光刻設備進口額暴漲近4倍。就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。從三季度中國半
據媒體報道，在美國的壓力下，荷蘭政府正計劃限制ASML在中國的半導體設備維修能力。荷蘭政府可能不會續期ASML在中國提供服務和備件的許可證，這些許可證將於今年年底到期，主要涉及該公司的高端深紫外光刻（DUV）設備。A
今年3月8日，荷蘭方面，計劃對半導體技術出口實施新的管制，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示新的
接連出臺，業內對地緣政治的影響更為擔憂。今年9月，荷蘭最新芯片出口管制措施生效。根據ASML此前回應，自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發運TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統的出口許可證。而在
芯片制造合作夥伴中芯國際，仍依賴美國應用材料公司和荷蘭阿斯麥的設備。華為取得突破後，美國一直在敦促盟友收緊對中國獲取尖端技術的限制。華盛頓已禁止應用材料公司及其美國同行為受制裁的中國實體設備提供維修服
153 億美元有所下降，但比 2020 年的 101 億美元大幅增長。荷蘭公司ASML則從美國的瘋狂限制中受益。它是紫外光刻技術（一種在矽晶圓上壓印芯片圖案的技術）領域的全球主導者，也是公認的極紫外光刻技術（EUV）領域的壟斷者
荷蘭貿易部長范李文（GeoffreyvanLeeuwen）近日在國會應詢表示，由於擔心荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）的電腦芯片設備將被用於中國軍事目的，最近決定撤回艾司摩爾對中國大陸出口部分產品的許可證。路透報導，范李文
頭ASML停止對出售給中國客戶的部分設備進行維修，這對荷蘭政府來說是一個外交和商業上的難題，但有跡象表明它會聽從這一要求，並繼續在出口限制方面與美國保持一致。路透社指出，盡管馬克·呂特總理領導的政府不願做出
備無法出口到中國。尖端制程嚴重依賴EUV光刻機總部位於荷蘭的ASML是目前全球最大的光刻機廠商，同時也是全球唯一的極紫外光刻設備供應商。EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設備，每臺成本高達數億美元。雖然目前
浸潤式光刻系統。ASML強調，新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而隻涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。截至目前企業尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的
針對近期荷蘭、日本加入對華半導體設備出口管制的動向，知名行業分析師DylanPatel認為，三方所達成的合作意向依然非常初步，本質上仍是口頭協議，其中存在不少漏洞。Patel指出，如果目標是阻止中國獲得14nm、7nm或5nm工藝技
2023年10月，日本光刻機大廠佳能（Canon）正式發佈基於納米壓印技術（NIL）的芯片制造設備FPA-1200NZ2C，預計為小型半導體制造商在生產先進制程芯片方面開辟出一條全新的路徑。近日，佳能負責新型納米壓印設備開發的高管武石