ASML表示，盡管尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，但是公司將其解讀為“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。
3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示“新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”
荷蘭政府在3月8日表示，計劃對半導體技術出口實施新的管制。據悉，決定是由荷蘭貿易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會的一封信中宣佈的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。
信中還指出“荷蘭認為有必要以最快的速度對這項技術進行監管，因此荷蘭政府將會盡快出臺一份國傢管控清單”。
盡管信中並沒有指名道姓地點出ASML和其合作夥伴，但是ASML在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側重於先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。
ASML表示，由於該等即將出臺的法規，ASML將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法並生效。基於相關的公告、對荷蘭政府許可證政策的預期以及當前的市場形勢，預計這些管制措施不會對ASML已發佈的2023年財務展望以及於去年11月投資者日宣佈的長期展望產生重大性影響。
ASML強調，新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而隻涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。截至目前企業尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。
ASML公司官網信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產品共有三款設備：TWINSCANNXT：1980Di，TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產品。
此外，ASML指出，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求，並稱該公司A長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。自2019年以來，ASML的EUV光刻系統已經受到限制。
ASML此前預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右。
ASML聲明如下：
荷蘭政府於今日發佈有關即將出臺的半導體設備出口管制措施的進一步的信息。這些新的出口管制措施側重於先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。
由於該等即將出臺的法規，ASML將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統。
這些管制措施需要一定時間才能付諸立法並生效。
基於今日的公告、我們對荷蘭政府許可證政策的預期以及當前的市場形勢，我們預計這些管制措施不會對我們已發佈的2023年財務展望以及於去年11月投資者日宣佈的長期展望產生重大性影響。
需要重點指出的是：新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，而隻涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統。盡管我們尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。此外，我們要指出，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最後，ASML的長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。
自2019年以來，ASML的EUV光刻系統已經受到限制。