據臺媒報道,臺積電3nm(N3)制程在完成技術研發及試產後,預計第三季下旬投片量開始大幅拉升,第四季月投片量將達上千片水準,開始進入量產階段。半導體設備業者指出,以臺積電N3制程試產情況來看,預期9月進入量產後,初期良品率表現會比之前5nm(N5)制程的初期更好。
臺積電總裁兼聯合行政總裁魏哲傢此前也表示過,臺積電的N3制程進度符合預期,將在2022年下半年量產並具備良好良品率。在HPC(高性能計算機群)和智能手機相關應用的驅動下,N3制程2023年將穩定量產,並於2023年上半年開始貢獻營收。
據悉,臺積電3nm仍然采用鰭式場效晶體管(FinFET)架構,但N3制程已采用創新的TSMC FINFLEX技術,將3nm傢族技術的PPA(效能、功耗效率以及密度)進一步提升。