三星:已完成16層混合鍵合HBM內存驗證 整體高度縮減


三星電子高管近日透露,該公司完成采用16層混合鍵合HBM內存技術驗證,已制造出基於混合鍵合技術的16層堆疊HBM3內存樣品,該內存樣品工作正常,未來16層堆疊混合鍵合技術將用於HBM4內存量產。混合鍵合技術作為新型的內存鍵合方式,相較於傳統工藝,展現出顯著的優勢。

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它摒棄DRAM內存層間添加凸塊的繁瑣步驟,通過銅對銅的直接連接方式實現層間連接,從而大大提高工作效率。

這種創新不僅顯著提升信號傳輸速率,更好地滿足AI計算對高帶寬的迫切需求,而且有效降低DRAM層間距,使得HBM模塊的整體高度得到顯著縮減,進一步提升其集成度和便攜性。

盡管混合鍵合技術的成熟度和應用成本一直是業界關註的焦點,但三星電子通過多元化的策略,積極應對這些挑戰。在推進混合鍵合技術研究與應用的同時,公司還同步開發傳統的TC-NCF工藝,以實現技術多樣化,降低風險,並增強整體競爭力。

據悉,三星設定的目標是將HBM4中的晶圓間隙縮減至7.0微米以內,這將進一步提升HBM4的性能和可靠性,為未來的計算應用奠定堅實基礎。

業內專傢對此表示,三星在16層混合鍵合堆疊工藝技術方面的突破,無疑將有力推動HBM內存技術的發展,為未來的計算應用提供更為強大的內存支持。


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