俄羅斯:2024年將制造350nm光刻機 2026年升級130nm


俄羅斯正在研發生產芯片的光刻機,其工業和貿易部副部長VasilyShpak表示,2024年將開始生產350nm光刻機,2026年啟動用於生產130nm制程芯片的光刻機設備,生產將在莫斯科、澤列諾格勒、聖彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

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Vasily Shpak在接受采訪時表示,全球隻有兩傢公司生產此類設備——日本尼康和荷蘭ASML。

對於半導體技術的重要性,Vasily Shpak稱,“一個簡單的邏輯鏈:如果沒有微電子主權,那就沒有技術主權,那麼你在國防安全和政治主權方面就非常弱。”

現在俄羅斯已經掌握使用外國制造設備的65nm技術,但無法生產光刻機。由於外國公司被禁止向俄羅斯出口現代光刻設備,該國正在匆忙開發自己的生產設備。

Vasily Shpak表示,2024年就將撥款2114億盧佈用於國內電子產品的開發。

Shpak說,350nm-65nm制程芯片用於微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等,這些應用大約占市場的60%。專傢表示,這項技術在世界范圍內的需求量很大,並且將在至少10年內擁有持續需求。

當被問到可能遭遇的阻力時,Vasily Shpak說,“我不想抱怨,所有的問題都不是問題,因為這關系到我們擁有哪些機會以及所設定的目標。”


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