俄稱自行開發光刻機將於2028年問世 可產出7納米芯片


俄羅斯科學院發豪語2028年自行研發的光刻機將問世,可生產出7納米芯片。據報道,國際制裁對俄羅斯斷供後,造成俄國芯片短缺,加以美國、英國和歐盟也祭出多項制裁,幾乎所有擁有先進晶圓制造商都停止與俄羅斯實體合作,ARM也無法將他們的技術授權給俄羅斯的芯片設計師。

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為此,俄羅斯政府推出一項國傢計劃,希望2030 年開發28納米制程,希望靠著對外國芯片進行逆向工程,並培養當地半導體人才。

不過,礙於國際制裁,美歐半導體設備商不能供應俄羅斯,若俄國推進28納米制程,就必須設計和研發出國產設備。隻是,像ASML 和應材(Applied Materials) 這樣的公司,得耗費幾十年時間開發,更新迭代也必須在大約8年內完成。

但是,俄羅斯似乎一點也不擔心,俄羅斯大諾夫哥羅德策略發展機構(Novgorod Strategy Development) 發豪語,宣稱俄羅斯科學院旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡,在2028年開發出可以生產7納米芯片的光刻機,還可擊敗ASML同類產品。

俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示,全球光刻機領導者ASML 近20 年來一直致力於EUV 曝光機,目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。但俄羅斯並不需要,隻要根據俄羅斯國內的需求向前推進即可。

報導直言,俄羅斯的想法似乎太過天真,俄羅斯想在6年內研發出可支持7納米芯片的光刻機可行性不高,且晶圓廠並非光靠光刻機就可生產出芯片,還需要許多設備,而俄羅斯並不生產這些設備。(校對/王婉青)


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