佳能計劃將其新型芯片制造設備的定價定在阿斯麥最佳光刻機成本的一小部分，尋求在尖端設備領域取得進展。佳能此前推出納米壓印半導體制造系統，試圖通過將該技術定位為比現有最先進工具更簡便、更易獲取的替代方案，來重振其市場地位。
佳能的新型芯片制造機器可以利用極紫外光刻（EUV）技術，生產相當於5納米規模的電路，這一領域由行業領導者阿斯麥壟斷。佳能預計，隨著技術的持續進步和優化，其設備將有望實現下一代2納米的生產水平。
該公司首席執行官Fujio Mitarai表示，該公司的新納米壓印技術將為小型半導體制造商生產先進芯片開辟一條道路，目前這種技術幾乎完全屬於該行業最大的公司。
Mitarai表示，“這款產品的價格將比阿斯麥的EUV設備低一位數，”他還表示，最終的定價決定還沒有做出。
阿斯麥是EUV工具的唯一供應商，這種設備是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值數億美元。隻有少數現金充裕的公司有能力投資於這些工具，這些工具目前正因其在科技供應鏈中的關鍵地位而受到審查。在美國向其盟友施壓，要求其限制技術流向中國之後，阿斯麥被禁止向中國客戶出口EUV系統。
這給佳能上個月上市的新工具帶來希望。今年7月，日本擴大對芯片制造出口的限制，但沒有明確提到納米壓印光刻技術。
但Mitarai表示，佳能可能無法將這些機器運往中國。“我的理解是，14納米技術以上的任何產品都是禁止出口的，所以我認為我們賣不出去。”日本經濟產業省一位官員表示，他無法評論出口限制將如何影響某傢公司或產品。
佳能與Dai Nippon Printing Co.和存儲芯片制造商鎧俠合作研究納米壓印工藝已有近十年的時間。與通過反射光工作的極紫外光刻技術不同，佳能的技術將電路圖案直接印在晶圓上，從而制造出據稱與最先進節點相當的幾何形狀的芯片，盡管速度要慢得多。
這臺新機器讓芯片制造商可以選擇降低對代工廠的依賴，同時也讓臺積電和三星電子等代工芯片制造商更有可能批量生產芯片。佳能表示，這種機器所需的功率隻有其EUV同類產品的十分之一。
Mitarai表示:“我不認為納米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創造新的機會和需求。”“我們已經收到很多客戶的咨詢。”
佳能此前一直專註於制造不太先進的芯片，2014年開始押註於納米印記技術，收購Molecular imprint Inc.。作為臺積電的供應商之一，佳能正在東京北部的宇都宮建設其20年來的第一傢光刻設備新工廠，將於2025年投產。