據韓國出版物《Hankyung》報道,三星準備在下個月推出第9代V-NAND(3DNAND閃存),預計將提供290層結構,比該公司於2022年首次推出的236層第八代V-NAND有進一步的提高。
據報道,三星是通過改進閃存層堆疊技術實現 290 層垂直堆疊密度的,這種技術依賴於通過在閃存層中增加存儲孔來增加層數。這樣做的代價是每個晶圓的數據密度,但增加層數帶來凈收益。
報道第 9 代 V-NAND 的同一消息來源還稱,該公司計劃在 2025 年初推出其後續產品--第 10 代 V-NAND。第 10 代 V-NAND 閃存預計將達到 430 層,比第 9 代 V-NAND 閃存增加 140 層(第 9 代 V-NAND 閃存比上一代增加 54 層)。
這將使三星與其競爭對手 Kioxia、SK Hynix、美光科技和 YMTC 重新走上正軌,向 2030 年實現 1000 層 3D NAND 閃存的宏偉目標發起沖擊。