三星宣佈3nm芯片成功流片 采用GAA工藝


三星宣佈,3nm芯片順利流片,為芯片的大規模量產做好準備。據悉,三星與Synopsys公司合作,雙方對整個芯片制造過程進行微調,從而最大限度提升芯片良率。這是三星第一款3nm芯片,它采用GateAllAround(GAA)工藝,三星GAA設計被稱為MCBFET,即多信道橋式FET。

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三星稱,與傳統3nm芯片相比,自傢3nm GAA設計的產品功率損耗可降低50%,性能也將得到改善,與之前的4nm FinFET工藝相比,能效和密度有著20%至30%的提升。

按照計劃,三星接下來會大規模生產下一代Soc,這顆芯片應該是傳聞中的Exynos 2500,Galaxy S25系列將會首發搭載,其性能對標高通驍龍8 Gen4以及聯發科天璣9400,後兩款芯片則是采用臺積電3nm工藝。

除旗艦手機,三星自傢的Galaxy Watch 7系列智能手表也有可能會搭載3nm芯片。


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