Intel曬史上最貴開箱 全球首臺高NA光刻機已裝機

消息，在近日的財報電話會議上，Intel CEO宣佈已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV（極紫外光刻機）。High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設備之一，其分辨率達到8納米，能夠顯著提升芯片的晶體管密度和

ASML已經向Intel交付第一臺高NAEUV極紫外光刻機，將用於2nm工藝以下芯片的制造，臺積電、三星未來也會陸續接收，可直達1nm工藝左右。那麼之後呢？消息稱，ASML正在研究下一代HyperNA(超級NA)光刻機，繼續延續摩爾定律。ASML第一代

2013年，蘋果發佈搭載Intel Xeon E5處理器的Mac Pro，這款產品由於其獨特的圓柱形外觀設計，直到現在也有不低的知名度。近日，一款由蘋果前首席工業設計師Jony Ive與Marc Newson合作設計，整體呈紅色的限量版Mac Pro在一場慈善拍賣會

4月19日消息，當地時間周四，美國芯片巨頭英特爾宣佈，已開始組裝阿斯麥（ASML）的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機，這是其超越競爭對手的重要一步。英特爾是首傢購買阿斯麥新一代光刻機的公司，這臺機器的售價

轉向高數值孔徑。該公司現正攜手Imec，準備2023年迎來其首臺研究型High-NA掃描儀。資料圖（來自：ASML）如果一切順利，ASML 有望 2024 年交付首臺研發機器，並於 2025 年的某個時候迎來首批使用 High-NA 的量產設備。不過出於對當前

，而1975年他自己改成每兩年翻倍。有人說，這是人類歷史上最偉大的“自我實現的預言”，因為英特爾就是照著這個預言一路狂奔數十年，直到光刻技術被卡在193nm上十多年變成網友說的“牙膏廠”。為實現摩爾定律，光刻技術

曝光（如下圖）。臺積電在早前的技術大會上則表示，在全球已經安裝的EUV光刻機系統中，臺積電擁有瞭其中的55%。三星的實際控制人李在鎔日前則拜訪瞭荷蘭總統，以尋找更多的EUV供應。這再次說明，生產先進芯片必不可少的

貨。這款機器應該指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑，2nm之後的節點都得依賴它實現。

英特爾已經完成第一臺高數值孔徑（HighNA）極紫外光刻掃描儀的組裝，英特爾院士MarkPhillips（馬克·菲利普斯）討論進展和前景。TwinscanEXE:5000的供應商ASMLHoldingNV（荷蘭Veldhoven）必須完成掃描儀的集成和校準，該掃描儀位於俄勒

機器預計最快2026年陸續到位，屆時HighNAEUV機器可望成為全球三大晶圓制造廠搶進2納米以下先進制程的必備武器。媒體報道，ASML近期對外秀出High NA EUV光刻機設備，一臺要價3.5億歐元，大小等同於一臺雙層巴士，重量更高達150公

快科技9月3日消息，7月19日，全球首臺16兆瓦超大容量海上風電機組在福建海上風電場成功並網發電，這意味著我國海上風電達到國際領先水平。據三峽集團消息，三峽集團福建區域海上風電場日前最大風速達23.56米/秒，安裝在

在業內，比Intel、臺積電、三星還要早就能接觸到ASML光刻機新品的是比利時微電子研究中心（IMEC），雖然名氣不大，但其實它是世界上最大的半導體專門研究機構。因為離得近，ASML的原型試做機，往往在完工後就第一時間送交I

導體工藝進入7nm以內，EUV光刻機是必不可少的關鍵設備，全球隻有ASML公司能生產，現在NA0.33孔徑的EUV光刻機售價高達1.5億美元，約合10億一臺，不過下一代會更貴。光刻機制造芯片的關鍵指標就是光刻分辨率，其中鏡頭的NA數值

進展順利，在EUV之後是High-NA EUV技術，ASML正在為客戶交付首臺High-NA EUV光刻機做準備，大概會在明年某個時間點完成。雖然供應鏈問題仍可能打亂ASML的時間表，不過應該問題不大。High-NA EUV光刻機會比現有的EUV光刻機更為耗電，