去年3月份,Intel推出瞭IDM2.0戰略,要重振在半導體領域的領導地位,其中的核心內容就是新建一批先進工藝半導體晶圓廠,在美國俄亥俄州投資200億美元建設兩座晶圓廠。根據Intel的信息,這兩座芯片廠分別會命名為Fab52、Fab62,並首次透露這些工廠將會在2024年量產20A工藝。
該投資計劃預計將創造3000多個高技術、高薪酬的長期工作崗位,以及3000多個建築就業崗位和大約15000個當地長期工作崗位。
這是俄亥俄州史上最大規模的一筆私人投資,預計每年能帶來28億美元的GDP,還有上面提到的大量工作機會。
Intel在當地建廠,地方政府當然也全力配合瞭,甚至是不惜血本——日前俄亥俄州新奧爾巴尼市議會以5:0的投票結果通過瞭對Intel的補貼計劃,那就是未來30年內不用交稅,這無疑是一筆巨額補貼。
不過Intel的晶圓廠建設現在還有點麻煩,原本預計在7月舉行開工儀式,現在被推遲瞭,因為美國政府的520億美元芯片補貼法案一直在拖延,這裡面的補貼對Intel來說依然很重要——地方政府的免稅補貼要拿,聯邦層面的資金補貼也不能少。