美光公司現在正在向客戶發送它聲稱是世界上最先進的DRAM技術節點的合格樣品。繼2021年1-α的批量出貨後，新的1-betaLPDDR5X幾乎在每一個方面都更勝一籌。據美光稱，該節點的能源效率提高約15%，並以每片16Gb的容量提供超過35%的位密度。
美光高管Scott DeBoer說，這項技術是通過他們專有的多圖案光刻技術與領先的工藝技術和先進的材料能力相結合而實現的。憑借其專有的多圖案光刻技術，美光已經能夠繞過其他廠商最近一直在使用的極紫外光（EUV）技術。
移動設備將首先獲得美光新技術的優勢，人工智能和對數據要求很高的5G應用無疑將很好地利用增加的帶寬，甚至像相機這樣的核心應用也將受益於縮短的啟動時間和改善的夜間和肖像模式性能。
美光還實施新的JEDEC增強型動態電壓和頻率縮放擴展核心（eDVFSC）技術。據該公司稱，增加eDVFSC可使頻率達到每秒3200兆，而1-α的頻率僅為每秒1600兆。
需要更少電力的RAM可以為更強大的處理器釋放容量，在當前的硬件上帶來更好的電池壽命，或者兩者兼而有之。
上個月，美光公司宣佈計劃在未來20年內投入1000億美元，在紐約州北部建立一個世界級的半導體制造廠。這是紐約歷史上最大的一筆私人投資，據立法者稱，最近通過的《芯片和科學法案》為美光在美國建設而不是去海外鋪平道路。
美光公司表示，它計劃在未來一年內加強其1-beta版本的其他產品組合，包括客戶、消費者、工業、嵌入式、數據中心和汽車領域。