快科技4月25日消息，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥ASML迎來新CEO，法國人克裡斯托夫富凱（Chrisrophe Fouquet）。
法國媒體在報道這一消息時直言，富凱上任後將面臨不少棘手的待辦事項，但如何處理公司在華業務則是首要工作”。
荷蘭有媒體報道稱，富凱的法國人身份將是一柄雙刃劍，一方面富凱跟荷蘭政客打交道時可能處於不利地位。
另一方面，法國代表著一個驕傲和自信的歐洲，所以當涉及阻止美方例如在出口管制方面的幹涉時，這位新CEO必然將獲得法國總統的支持。”
在去年被確認為ASML候任CEO時，富凱曾表示，ASML長期以來一直致力於捍衛公司技術並保持領先地位，這在一定程度上要歸功於來自中國等市場的收入並進行再投資。而美國實施的出口管制，將適得其反。”
同時他還認為，從貿易的角度來看，不同地區之間脫鉤是非常困難的，特別是這個行業需要高度協作。
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥全球高級副總裁、中國區總裁沈波在進博會期間接受專訪時表示，今年阿斯麥中國的業務增長很快，預期全年中國占阿斯麥全球的營收會超過20%，對明年在中國的業務也非常的樂觀。沈波表示：“我們2023
據彭博社報道，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公司首席執行官溫寧克當地時間25日在荷蘭維爾德霍芬的公司總部接受采訪時表示，美國主導的針對中國的半導體出口管制措施，最終會促使中國在高端芯片制造設備領域成功研發出自己的
球范圍內有40，000名員工，其中24，000人在荷蘭工作。在光刻機領域，阿斯麥不僅是全球最大的制造商，也是唯一的極紫外光刻機供應商。阿斯麥首席財務官Roger Dassen在聲明中寫道，“正如我們之前所說，阿斯麥傾向於將荷蘭的
道，一名消息人士透露，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。目前，荷蘭政府已成立一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以探索阻止ASML離開的方法。消息
全球光刻機巨頭ASML（阿斯麥）全球副總裁、中國區總裁沈波接受媒體采訪時表示，先進制程的光刻機固然重要，但成熟制程同樣不容忽視。ASML是全球光刻機巨頭，尤其先進制程光刻機隻有ASML可以提供，但ASML的先進制程光刻機
管制措施將在今天夏天之前開始實施。3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的
有阿斯麥（ASML）最先進的高數值孔徑極紫外（high-NAEUV）光刻機，用於生產納米片晶體管（GAAFET）架構的2nm（N2）芯片，預計在2025年量產。與此同時，6月初被美國總統拜登亞洲行接見後，緊接著，韓國三星電子副會長李在鎔又馬
的確切定義的信息，但是公司將其解讀為“關鍵的浸潤式光刻系統”，即TWINSCANNXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統。3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發佈聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公
司來說，研發投入也隨著制程向前推進而增長。2021年，光刻機巨頭阿斯麥公司（ASML）的研發投入達到25億歐元，阿斯麥公司的公開說法是，主要是由於極紫外光刻機的生產以及開發更進一步high-NA的極紫外光刻機。第三方分析機
息人士稱，達成的協議可能不會立即公佈。荷蘭將限制其光刻機巨頭阿斯麥（ASML）出售部分深紫外（DUV）光刻機，這或會影響一些制造先進芯片的生產線建設。日本亦將對尼康公司有類似的限制。對此，日本立法者警告稱中國
英特爾的誤判。以下是文章主要內容：阿斯麥的High-NA EUV光刻機鳳凰網科技訊 這是一個史詩級的戰略失誤。美國在半導體技術發展的早期發揮至關重要的作用，這項技術已成為當今人工智能(AI)革命的基石。然而，現在的格局是
備制造商阿斯麥（ASML）2月10日向媒體展示新一代極紫外光刻機（EUV），型號為：TWINSCANEXE:5000。這臺光刻機大小約一輛雙層巴士，重量約兩架空客A320飛機、價值高達3.5億歐元（約合27億元人民幣）。該設備對ASML在1250億美元的EUV
組裝阿斯麥（ASML）的高數值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻機，這是其超越競爭對手的重要一步。英特爾是首傢購買阿斯麥新一代光刻機的公司，這臺機器的售價高達3.5億歐元（約合3.73億美元）。盡管存在一定的財務和工程風
場已經觸底，目前已有復蘇跡象。阿斯麥是世界上最大的光刻系統制造商。這種設備在制造半導體的過程中起著至關重要的作用。盡管英特爾(INTC.US)、德州儀器(TXN.US)和英飛凌科技(IFNNY.US)等芯片制造商都警告今年銷售疲軟，但對