劍指2nm 工藝!歐盟公佈430億歐元芯片法案:但遠遠不夠


7月25日,歐盟理事會正式批準此前推出的芯片補貼法案,總額高達430億歐元,而此前歐洲議會也在本月批準這一法案,這意味著掃清法律障礙,待簽署之後很快就會生效。

這一法案是去年2月份提出的,旨在提供430億歐元的投資,其中歐盟預算支出33億歐元,其他是私人投資鼓勵在歐盟境內建立芯片工廠,減少對美國及亞洲地區的依賴。

根據法案內容,其目標主要有兩方面,一個是將歐盟在全球芯片市場上的份額從10%翻倍提升到20%,2030年前實現。

另一方面則是技術目標,要發展先進工藝,包括建設10nm及以下節點FD-SOI試驗線、2nm以下工藝節點FinFET/GAA試驗線、3D異構先進封裝試驗線等。

不過歐盟430億美元的芯片法案並不被所有人都看好,首先是規模上遠不如美國、中國甚至韓國,其中美國推出的芯片 科學法案中,針對半導體行業的就有527億美元,還有2000億美元用於科學技術開發。

韓國三星等公司之前也推出龐大的開支計劃,總投資高達510萬億韓元,約合4000億美元,要在2030年成為最全球最大的半導體公司,超越臺積電。

另外臺積電一傢公司也制定三年投資1000億美元的擴產計劃。

至於國內的半導體行業,各地的投資計劃龐大,每年的投資額也是萬億人民幣起步的,都要遠高於歐盟的投入水平。


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