東芯半導體:19nm閃存完成首輪流片 暫時不做3D閃存


說到國產NAND閃存,大傢肯定第一個想到長江存儲,但在這一行業努力的還有很多傢。8月19日,東芯半導體在回答投資者提問時透露,該公司采用19nm先進工藝的NANDFlash閃存產品已完成首輪流片,目前正在產品調試的過程中。

東芯稱,公司在更新工藝方面不斷鉆研,從38nm、24nm再到正在開發的19nm的工藝,通過更新工藝來為客戶帶來更具性價比、更高容量的產品。

對於是否會進軍3D NAND閃存,東芯回應稱,目前聚焦於中小容量通用型存儲芯片的研發、設計和銷售,暫不涉及3D NAND業務。

另外,車規級存儲器產品對各項指標都有更高的要求,因此認證、導入時間較長,目前相關產品正在積極研發和導入過程中。


公開資料顯示,東芯半導體股份有限公司(DoSilicon)成立於2014年,總部位於上海,在深圳、南京、香港、韓國均設有分公司或子公司,致力於成為領先的存儲芯片設計公司,服務全球客戶。

作為Fabless芯片企業,東芯半導體擁有獨立自主的知識產權,聚焦於中小容量NAND、NOR、DRAM芯片的設計、生產和銷售,是目前國內少數可以同時提供NAND、NOR、DRAM設計工藝和產品方案的存儲芯片研發設計公司。



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