內存行業明年將迎來全新3D DRAM 存儲密度有望快速攀升


如今的內存市場上,不僅面臨著價格下滑的壓力,同時技術發展也遇到瓶頸,在20nm節點之後發展速度已經慢下來,三星在14nm節點就用上EUV光刻工藝,尋求進一步微縮。

然而EUV光刻成本高昂不說,也沒法徹底改變內存芯片的技術難題,三星已經做到12nm工藝,再往後的內存工藝很難說,核心原因還是傳統的2D DRAM內存技術快到極限,就跟CPU邏輯工藝情況類似。

後面怎麼辦?作為內存一哥,三星也早就在準備新的技術,那就是3D DRAM,類似閃存從2D到3D的轉變一樣,通過3D堆棧來進一步提高內存的存儲密度。

在這個新技術上,壟斷全球75%內存產能的三星、SK海力士及美光三傢公司都在積極研發,其中三星早在2021年就宣佈組建全新的團隊攻關新一代內存技術。

SK海力士也有類似的計劃,而且他們計劃在明年公佈3D DRAM技術的進展,這個領域目前還沒有哪傢公司是絕對的領先,因此搶先公佈可以贏得更多機會。

不過3D DRAM內存現在還在研發階段,距離真正量產還要很久,至少三四年後才會有產品問世。


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